シリコン酸化物のレイヤーで詳細なパターンを描くには、フォトリソグラフィーと呼ばれる100年も前からある印刷の技法が使われます。感光性を持つ高分子材料の薄いレイヤー（フォトレジスト）をシリコン酸化物の表面に塗布します。ガラスマスクを通して紫外線を照射し、各レイヤーの回路パターンをフォトレジスト上に写します。この紫外線は非常に屈折率が低いため、ガラスマスクに原子数個分の大きさの“ピンホール”があるだけで、そのガラスマスクは使えなくなってしまいます。
紫外線を受けなかったフォトレジスト領域を溶剤の漕に入れて取り除くことによって、保護酸化物のレイヤーをエッチングして回路パターンを出現させます。その後、次の主要な処理工程に備えて、エッチングによって酸化物レイヤーで小さい穴を開けます。
